鸿通晟精密涂布机与流延设备制造商

面向锂电、MLCC、半导体与光学薄膜的量产装备

精密涂布设备与整线方案

聚焦半导体、锂电及 MLCC 与光学薄膜制造工艺,提供从精密涂布、流延与干燥,到收放卷、叠层层压及整线集成的定制装备。

MLCC陶瓷膜片流延与叠层设备

面向 MLCC 及电子陶瓷膜片制造,覆盖刮刀与狭缝流延、在线分切、叠层及层压等关键工序,可按工艺需求配置单机、联机设备及生产线方案。
亚微米级厚度控制挑战
洁净室环境兼容性要求
高附加值材料利用率
我们的解决方案
亚微米级控制 洁净室兼容 在线缺陷检测 纳米级精度
该系列包含 6 款平台设备
PCT-SD300 晶圆涂布平台
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PCT-SD300 晶圆级精密涂布设备

锂电极片与新能源材料涂布设备

面向锂电池极片、固态电池与钙钛矿等新能源材料,提供实验室涂布、单层及双层挤压涂布、涂布分切一体化和独立分切设备,支持从工艺验证到量产线配置。
宽幅涂布边缘效应控制
高速卷绕张力稳定性
多层涂布对准精度
我们的解决方案
宽幅涂布 高速卷绕 干燥集成 多层对准
该系列包含 8 款平台设备
PCT-BW1500 极片涂布平台
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PCT-BW1500 新能源极片涂布设备

光学与功能薄膜精密涂布设备

面向光学膜、偏光片及显示功能膜制造,围绕精密涂布、张力控制、干燥和收放卷等工序提供设备与工艺配置,满足打样、中试及连续生产需求。
整面厚度均匀性控制
低应力干燥工艺
光学缺陷控制要求
我们的解决方案
高精度张力 低应力干燥 在线检测 光学级洁净
该系列包含 5 款平台设备
PCT-OF800 光学膜涂布平台
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PCT-OF800 光学膜精密涂布设备

先确认材料与产能,再确定设备配置

提供基材、浆料、涂布幅宽、目标厚度、线速和产能要求;我们据此评估涂布方式、干燥能力、张力与收放卷配置,并明确试验和验收依据。

您需要提供

基材与浆料、幅宽与厚度、涂布量、线速与目标产能,以及洁净、溶剂和厂房条件。

我们会给出

建议的涂布或流延方式、干燥与张力配置、收放卷方案、主要性能边界,以及试料、FAT/SAT 和供货范围建议。

结构,决定量产精度

从承载刚性、传动响应到装配校准,每一处结构都对应连续生产中的一项结果。

承载抑制变形 传动稳定张力 校准控制间隙 验证形成数据
查看全部结构与核心技术
十字架式与移动支臂式收放卷转塔结构
真实设备结构 十字架式与移动支臂式转塔
连续接带成功率 ≥ 99.5%

一级传动直接响应扭矩,高扭矩大惯量伺服保障持续运行。

两种转塔结构
十字架式与移动支臂式可按材料和换卷节拍选择。
2 倍安全系数
转塔搭载高扭矩伺服,降低连续运转中的波动与故障。
防滑压辊机构
改善换卷瞬间的料带贴合,减少接带打滑。
查看完整结构说明

页面指标来自特定设备配置或内部验证记录;实际项目以双方确认的技术协议、物料工况与验收标准为准。

工艺流程

从供液、放卷、涂布与干燥,到检测和收卷

工艺能力边界

左右滑动查看完整参数

工艺参数 我们的能力 行业常规 优势说明
涂布幅宽 300 - 1500mm 最大 1200mm 超宽幅涂布,减少拼接
湿膜厚度 5μm - 500μm 20μm 起涂 超薄涂布,满足半导体需求
基材厚度 2μm - 1mm 10μm 起 超薄基材张力控制
涂布速度 最高 200m/min 120m/min 高速工况按材料与配置验证
厚度均匀性 ±1.2% ±3% 光学级均匀性标准
粘度范围 1 - 50,000 cP 10 - 5,000 cP 覆盖低粘至高粘全范围

能力范围按特定配置与验证条件汇总,对比项仅用于方案评估。项目性能与验收指标以材料试验及双方确认的技术协议为准。

制造实力

制造基地、技术团队、知识产权与产能规模,共同构成稳定交付的制造基础。

20,000㎡
制造基地面积
300+人
技术团队规模
120+项
专利与知识产权
500+台
年产能规模
ISO 9001
质量管理体系
CE 认证
欧盟市场准入
120+ 项
专利与软著

服务的材料与工艺领域

服务范围覆盖锂电极片、MLCC 陶瓷膜片、光学与功能薄膜等应用。根据材料、节拍和验收条件,配置涂布、流延、干燥、收放卷、叠层层压与整线集成方案。

半导体晶圆制造 先进封装 MEMS 传感器 锂电池极片 固态电池 钙钛矿电池 燃料电池 光学薄膜 偏光片 量子点膜 增亮膜 柔性电子 氢能电极 PCB 阻焊
50+
长期服务客户
15+
应用细分领域
FAQ

常见问题解答

关于锂电涂布机、MLCC 流延叠层层压设备、双层涂布机、自动换卷系统、精密烘箱及平野 PNT 级工艺对标的常见技术疑问。

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01 什么是 Slot Die 精密涂布技术,适用于锂电和 MLCC 哪些工艺环节?

Slot Die(狭缝挤出)涂布是一种高精度、无接触式的涂布技术,通过精密模头将涂布液以恒定厚度均匀涂覆在基材表面。在锂电领域,它是正负极片制造的核心工艺,直接决定极片的面密度一致性与电池能量密度;在MLCC领域,它是陶瓷浆料流延成膜的关键步骤,影响后续叠层与层压的精度。

鸿通晟科技的 Slot Die 平台覆盖超薄涂布(最薄 5μm 湿膜)到厚膜涂布(500μm)全范围,兼容锂电极片、固态电解质、钙钛矿吸光层、MLCC 陶瓷膜、光学薄膜等多种材料体系。

锂电涂布机 MLCC流延 Slot Die 超薄涂布

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